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期刊論文
出版日期2009-02-00
期刊等級SCI
論文名稱(篇名)A New Two-dimensional Analytical Subthreshold Behavior Model for Short-channel Tri-material Gate-stack SOI MOSFET’s
期刊名Microelectronics Reliability
卷數vol.49
期數no.2
起頁113
迄頁119
作者中文名江德光
作者英文名Te-Kung Chiang
全部作者T.K. Chiang
使用語言英文

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