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期刊論文
出版日期2009-03-00
期刊等級SCI / EI
論文名稱(篇名)The Impact of Strain Technology on FUSI Gate SOI CMOSFET
期刊名IEEE Transactions on Device and Materials Reliability
卷數9
期數1
起頁74
迄頁79
總頁數6
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者Wen-Kuan Yeh, Jean-An Wang, Ming-Hsing Tsai, Chien-Ting Lin, and Po-Ying Chen
著作人數5
作者型態First Author
使用語言英文

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