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期刊論文
出版日期2008-11-00
期刊等級SCI / 其他
論文名稱(篇名)Significantly improving sub-90 nm CMOSFET performances with notch-gate enhanced high tensile-stress contact etch stop layer
期刊名Microelectronics Reliability
卷數48
期數11-12
起頁1791
迄頁1794
總頁數4
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者Chia-Wei Hsu, Yean-Kuen Fang, Wen-Kuan Yeh, and Chien-Ting Lin
著作人數4
作者型態Corresponding Author
使用語言英文

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