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期刊論文
出版日期2008-09-00
期刊等級SCI
論文名稱(篇名)Significant Improvement of 45nm and Beyond Complementary Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor Performance with Fully Silicided and Ultimate Spacer Process Technology
期刊名Thin Solid Films
卷數516
期數21
起頁7741
迄頁7743
總頁數3
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者Chia-Wei Hsu, Yean-Kuen Fang, Chien-Ting Lin, Wen-Kuan Yeh, Che-Hua Hsu ,Chieh-Ming Lai, Li-Wei Cheng, and Mike Ma
著作人數8
作者型態Corresponding Author
使用語言英文

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