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期刊論文
出版日期2007-04-00
期刊等級SCI
論文名稱(篇名)Efficient Mobility Enhancement Engineering on 65nm Fully Silicide complementary MOSFET Using Second Contact Etch Stop Layer Process
期刊名Japanese Journal of Applied Physics
卷數46
期數4B
起頁2127
迄頁2130
總頁數4
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者Chieh-Ming Lai, Yean-Kuen Fang, Chien-Ting Lin, and Wen-Kuan Yeh
著作人數4
作者型態Corresponding Author
使用語言英文

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