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期刊論文
出版日期2011-05-00
期刊等級SCI
論文名稱(篇名)NBTI reliability on high-k metal-gate SiGe transistor and circuit performances
期刊名Microelectron. Reliab.
卷數51
期數5
起頁914
迄頁918
總頁數5
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者Jiann-Shiun Yuan, Wen-Kuan Yeh, Shuyu Chen and Chia-Wei Hsu
著作人數4
作者型態Other
使用語言英文

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