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研討會論文
年度2011
論文類型口頭報告 / 會議論文
論文等級EI
論文名稱(篇名)A Proposed High Manufacturability Strain Technology for High-k/Metal Gate SiGe-SOI CMOSFET
會議名稱2011 IEEE International SOI Conference
會議開始時間2011-10-03
會議結束時間2011-10-06
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者W.K. Yeh, C. Y. Cheng(鄭濟允), Y. L Yang, C.T. Lin , C.M. Lai, Y.W.Chen, C. H. Hsu, C. W. Yang, and P. Y. Chen
著作人數9
作者型態First Author / Corresponding Author
會議地點Tempe, Arizona, USA
使用語言英文

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