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研討會論文
年度2011
論文類型海報展示
論文名稱(篇名)The Improvement of Reliability of 28nm High-k/Metal Gate Device with Various PMA Conditions
會議名稱Symposium of Nano Device Technology
會議開始時間2011-04-00
會議結束時間2011-04-00
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者Chi-Yun Cheng, Wen-Kuan Yeh, Yi-Lin Yang and Chia-Wei Hsu
著作人數4
作者型態Other
會議地點 Hsinchu, Taiwan
主辦單位NDL
使用語言英文

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