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學術成果

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期刊論文
出版日期2015-06-00
期刊等級SCI
論文名稱(篇名)A Si–based bulk FinFET by novel etching process with mask–less and photoresist–free lithography technique
期刊名International Journal of Nanotechnology
卷數12
期數1/2
起頁87
迄頁89
作者中文名葉文冠
作者英文名Wen-Kuan Yeh
全部作者Min–Cheng Chen, Chih–Ming Wu, Yun–Fang Hou, Yi–Ju Chen, Chang–Hsien Lin, Chia–Yi Lin, Bo–Wei Wu, Wen–Kuan Yeh
著作人數8
作者型態Corresponding Author

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