Deposition of Aluminum Nitride Thin Film on Si (111) by KrF Excimer Laser and its Characterizations

  • 出版日期：2008-04200
  • 期刊等級：SCI
  • 論文名稱(篇名)：Deposition of Aluminum Nitride Thin Film on Si (111) by KrF Excimer Laser and its Characterizations
  • 期刊名：Applied Surface Science
  • 卷數：vol.254
  • 期數：no.8
  • 起頁：2211
  • 迄頁：2215
  • 總頁數：5
  • 作者中文名：施明昌
  • 作者英文名：Ming-Chang Shih
  • 全部作者：Ming Chang Shih, Chi-Wei Liang, Ping-Ju Chaing
  • 著作人數：3
  • 作者型態：First Author
  • ISSN(ISBN)：
  • 使用語言：英文