"The impact of interface/border defect on performance and reliability of high-k/metal-gate CMOSFET" , Microelectronics Reliability , 4 , 53 , pp265-269 ,2013, (SCI)

  • 出版日期：2013-02-00
  • 期刊等級：SCI
  • 論文名稱(篇名)：The impact of interface/border defect on performance and reliability of high-k/metal-gate CMOSFET
  • 期刊名：Microelectronics Reliability
  • 卷數：4
  • 期數：53
  • 起頁：265
  • 迄頁：269
  • 總頁數：4
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Wen-Kuan Yeh , Po-Ying Chen, Kwang-Jow Gan, Jer-Chyi Wang, Chao Sung Lai
  • 著作人數：5
  • 作者型態：Corresponding Author