"Impact of SOI Thickness on FUSI-Gate CESL CMOS Performance and Reliability" , IEEE Transactions on Device and Materials Reliability , 11 , 1 , pp44-49 ,2011, (SCI),(EI)

  • 出版日期：2011-03-00
  • 期刊等級：SCI / EI
  • 論文名稱(篇名)：Impact of SOI Thickness on FUSI-Gate CESL CMOS Performance and Reliability
  • 期刊名：IEEE Transactions on Device and Materials Reliability
  • 卷數：11
  • 期數：1
  • 起頁：44
  • 迄頁：49
  • 總頁數：6
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Yu-Ting Chen, K.-M. Chen, Wen-Kuan Yeh, C.-C. Wang, C-L. Lin, J.-S. Yuan, and F.-S. Yeh
  • 著作人數：7
  • 作者型態：Other
  • 參考網址：http://ieeexplore.ieee.org/search/freesrchabstract.jsp?tp=&arnumber=5560782&queryText%3DImpact+of+SOI+Thickness+on+FUSI-Gate+CESL+CMOS+Performance+and+Reliability%26openedRefinements%3D*%26searchField%3DSearch+All
  • 使用語言：英文