"The Impact of Strain Technology on FUSI Gate SOI CMOSFET" , IEEE Transactions on Device and Materials Reliability , 9 , 1 , pp74-79 ,2009, (SCI),(EI)

  • 出版日期：2009-03-00
  • 期刊等級：SCI / EI
  • 論文名稱(篇名)：The Impact of Strain Technology on FUSI Gate SOI CMOSFET
  • 期刊名：IEEE Transactions on Device and Materials Reliability
  • 卷數：9
  • 期數：1
  • 起頁：74
  • 迄頁：79
  • 總頁數：6
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Wen-Kuan Yeh, Jean-An Wang, Ming-Hsing Tsai, Chien-Ting Lin, and Po-Ying Chen
  • 著作人數：5
  • 作者型態：First Author
  • 使用語言：英文