"Significantly improving sub-90 nm CMOSFET performances with notch-gate enhanced high tensile-stress contact etch stop layer" , Microelectronics Reliability , 48 , 11-12 , pp1791-1794 ,2008, (SCI),(其他)

  • 出版日期：2008-11-00
  • 期刊等級：SCI / 其他
  • 論文名稱(篇名)：Significantly improving sub-90 nm CMOSFET performances with notch-gate enhanced high tensile-stress contact etch stop layer
  • 期刊名：Microelectronics Reliability
  • 卷數：48
  • 期數：11-12
  • 起頁：1791
  • 迄頁：1794
  • 總頁數：4
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Chia-Wei Hsu, Yean-Kuen Fang, Wen-Kuan Yeh, and Chien-Ting Lin
  • 著作人數：4
  • 作者型態：Corresponding Author
  • 使用語言：英文