出版日期:2007-04-00
期刊等級:SCI
論文名稱(篇名):Extra Bonus on Transistor Optimization with Stress Enhanced Notch-gate Technology for sub-90nm CMOSFET
期刊名:Japanese Journal of Applied Physics
卷數:46
期數:4B
起頁:2131
迄頁:2133
總頁數:3
作者中文名:葉文冠
作者英文名:Wen-Kuan Yeh
全部作者:Chien-Ting Lin, Yean-Kuen Fang, Chieh-Ming Lai, Wen-Kuan Yeh, Che-Hua Hsu, Li-Wei Cheng, Yao-Tsung Huang, and Guang Hwa Ma
著作人數:8
作者型態:Corresponding Author
使用語言:英文