"Efficient Mobility Enhancement Engineering on 65nm Fully Silicide complementary MOSFET Using Second Contact Etch Stop Layer Process" , Japanese Journal of Applied Physics , 46 , 4B , pp2127-2130 ,2007, (SCI)

  • 出版日期：2007-04-00
  • 期刊等級 ：SCI
  • 論文名稱(篇名)：Efficient Mobility Enhancement Engineering on 65nm Fully Silicide complementary MOSFET Using Second Contact Etch Stop Layer Process
  • 期刊名：Japanese Journal of Applied Physics
  • 卷數：46
  • 期數：4B
  • 起頁：2127
  • 迄頁：2130
  • 總頁數：4
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Chieh-Ming Lai, Yean-Kuen Fang, Chien-Ting Lin, and Wen-Kuan Yeh
  • 著作人數：4
  • 作者型態：Corresponding Author
  • 使用語言：英文