出版日期:2006-11-00
期刊等級:SCI
論文名稱(篇名):The Geometry Effect of Contact Etch Stop Layer Impact on Device Performance and Reliability for 90-nm SOI nMOSFETs
期刊名:IEEE Transactions on Electron Devices
卷數:53
期數:11
起頁:2779
迄頁:2785
總頁數:7
作者中文名:葉文冠
作者英文名:Wen-Kuan Yeh
全部作者:Chieh-Ming Lai, Yean-Kuen Fang, Chien-Ting Lin, and Wen-Kuan Yeh
著作人數:4
作者型態:Corresponding Author
使用語言:英文