"Stress Technology Impact on Device Performance and Reliability for <100> sub-90nm SOI CMOSFETs" , Japanese Journal of Applied Physics , 45 , 4B , pp3053-3057 ,2006, (SCI)

  • 出版日期：2006-04-00
  • 期刊等級：SCI
  • 論文名稱(篇名)：Stress Technology Impact on Device Performance and Reliability for <100> sub-90nm SOI CMOSFETs
  • 期刊名：Japanese Journal of Applied Physics
  • 卷數：45
  • 期數：4B
  • 起頁：3053
  • 迄頁：3057
  • 總頁數：5
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Chieh-Ming Lai, Yean-Kuen Fang, Wen-Kuan Yeh, S. H. Chen, and Ta-Hsun Yeh
  • 著作人數：5
  • 作者型態：Corresponding Author
  • 使用語言：英文