"A Proposed High Manufacturability Strain Technology for High-k/Metal Gate SiGe channel UTBB CMOSFET",International Conference on Software and Computing Technology,Xian,China,2012/11/00 (SCI)

  • 年度：2012
  • 論文類型：受邀演講
  • 論文等級：EI
  • 論文名稱(篇名)：A Proposed High Manufacturability Strain Technology for High-k/Metal Gate SiGe channel UTBB CMOSFET
  • 會議名稱：International Conference on Software and Computing Technology
  • 會議開始時間：2012-11-00
  • 會議結束時間：2012-11-00
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Wen-Kuan Yeh , P.Y. Chen , Y.L Yang
  • 著作人數：3
  • 作者型態：Other
  • 會議地點：Xian,China