"The Improvement of Reliability of 28nm High-k/Metal Gate Device with Various PMA Conditions",Symposium of Nano Device Technology, Hsinchu, Taiwan,2011/04/00

  • 年度：2011
  • 論文類型：海報展示
  • 論文名稱(篇名)：The Improvement of Reliability of 28nm High-k/Metal Gate Device with Various PMA Conditions
  • 會議名稱：Symposium of Nano Device Technology
  • 會議開始時間：2011-04-00
  • 會議結束時間：2011-04-00
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Chi-Yun Cheng, Wen-Kuan Yeh, Yi-Lin Yang and Chia-Wei Hsu
  • 著作人數：4
  • 作者型態：Other
  • 會議地點：Hsinchu, Taiwan
  • 主辦單位：NDL
  • 使用語言：英文