"A Proposed High Performance High-k/Metal Gate CMOSFET Process with Optimism Strained Si cap/SiGe p-channel and Relaxed SiGe n-channel",ICSICTS,Shanghai, China. ,2010/11/01-2010/11/03

  • 年度：2010
  • 論文類型：口頭報告 / 受邀演講
  • 論文名稱(篇名)：A Proposed High Performance High-k/Metal Gate CMOSFET Process with Optimism Strained Si cap/SiGe p-channel and Relaxed SiGe n-channel
  • 會議名稱：ICSICTS
  • 會議開始時間：2010-11-01
  • 會議結束時間：2010-11-03
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Wen-Kuan Yeh, Jean-An Wang , Chien-Ting Lin, Li-Wei Cheng, Mike Ma
  • 著作人數：5
  • 作者型態：First Author
  • 會議地點：Shanghai, China.
  • 主辦單位：Shanghai, China.
  • 使用語言：英文