"The Impact of Strain Technology on Device Characteristic and Reliability for FUSI Gate SOI CMOSFET and Device Performance Enhancement for 45nm node",ICSICTS,Beijing, China,2008/10/00 (其他)

  • 年度：2008
  • 論文類型：受邀演講
  • 論文等級：其他
  • 論文名稱(篇名)：The Impact of Strain Technology on Device Characteristic and Reliability for FUSI Gate SOI CMOSFET and Device Performance Enhancement for 45nm node
  • 會議名稱：ICSICTS
  • 會議開始時間：2008-10-00
  • 會議結束時間：2008-10-00
  • 作者中文名：葉文冠
  • 作者英文名：Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者：Wen-Kuan Yeh, Jean-An Wang , Chien-Ting Lin, Li-Wei Cheng, Mike Ma
  • 著作人數：5
  • 作者型態：First Author
  • 會議地點：Beijing, China
  • 使用語言：英文