"A New Analytical Subthreshold Behavior Model for Single-Halo Dual-Material Gate Silicon on Insulator Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor" , Japanese Journal of Applied Physics , vol.47 , no.11 , pp8297-8304 ,2008, (SCI)

  • 出版日期：2008-11-00
  • 期刊等級：SCI
  • 論文名稱(篇名)： A New Analytical Subthreshold Behavior Model for Single-Halo Dual-Material Gate Silicon on Insulator Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor
  • 期刊名：Japanese Journal of Applied Physics
  • 卷數：vol. 47
  • 期數：no.11
  • 起頁：8297
  • 迄頁：8304
  • 作者中文名：江德光
  • 作者英文名：Te-Kung Chiang
  • 全部作者：T.K. Chiang
  • 著作人數：1
  • 作者型態：First Author / Corresponding Author
  • 使用語言：英文