A New Two-dimensional Analytical Model for Nano Tri-material Gate-Stack SOI MOSFET's, pp. 216-217

  • 年度：2008
  • 論文類型：會議論文
  • 論文等級：其他
  • 論文名稱(篇名)：A New Two-dimensional Analytical Model for Nano Tri-material Gate-Stack SOI MOSFET's, pp. 216-217
  • 會議名稱：2008 International Symposium on Nano Science and Technology
  • 會議開始時間：2008-03-02
  • 會議結束時間：2008-03-02
  • 作者中文名：江德光
  • 作者英文名：Te-Kung Chiang
  • 全部作者：T.K. Chiang, He jia-jiang , and Chen Shih-Fang
  • 著作人數：3
  • 作者型態：
  • 會議地點：Tainan, Taiwan.
  • 使用語言：英文