許竣凱﹑郭立文﹑馮瑞陽*﹑洪俊宏，超臨界二氧化碳下以氫氟酸蝕刻剝離絕緣層上覆矽奈米矽薄膜之技術與特異及其機制之研究，第十九屆2020年超臨界流體技術應用與發展研討會，10/23，台中，台灣，2020。