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"利用超臨界二氧化碳攜帶氫氟酸開發磊晶薄膜之高效蝕刻剝離技術",第十五屆超臨界流體技術應用與發展研討會暨第四屆海峽兩岸超臨界流體技術研討會

  • 年度:2016
  • 論文類型:口頭報告 / 會議論文
  • 論文等級:其他
  • 論文名稱(篇名):利用超臨界二氧化碳攜帶氫氟酸開發磊晶薄膜之高效蝕刻剝離技術
  • 會議名稱:第十五屆超臨界流體技術應用與發展研討會暨第四屆海峽兩岸超臨界流體技術研討會
  • 會議開始時間:2016-09-08
  • 會議結束時間:2016-09-10
  • 作者中文名:馮瑞陽
  • 作者英文名:(David) Jui-Yang, Feng
  • 全部作者:郭衡、廖泰鈞、馮瑞陽*
  • 著作人數:3
  • 作者型態:Corresponding Author
  • 會議地點:Kaohsiung, Taiwan (論文優良獎)
  • 主辦單位:Taiwan Supercritical Fluid Association (TSCFA) and Metal Industries Research & Development Centre (MIRDC)
  • 備註:論文優良獎
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