Deposition of Aluminum Nitride Thin Film on Si (111) by KrF Excimer Laser and its Characterizations
- 出版日期：2008-04200
- 期刊等級：SCI
- 論文名稱(篇名)：Deposition of Aluminum Nitride Thin Film on Si (111) by KrF Excimer Laser and its Characterizations
- 期刊名：Applied Surface Science
- 卷數：vol.254
- 期數：no.8
- 起頁：2211
- 迄頁：2215
- 總頁數：5
- 作者中文名：施明昌
- 作者英文名：Ming-Chang Shih
- 全部作者：Ming Chang Shih, Chi-Wei Liang, Ping-Ju Chaing
- 著作人數：3
- 作者型態：First Author
- ISSN(ISBN)：
- 使用語言：英文
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