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"An Efficient Mobility Enhancement Engineering on 65nm FUSI CMOSFETs using a Second CESL Process",Solid-State Device and Materials,YoKohama, Japan,2006/09/00

  • 年度:2006
  • 論文類型:其他
  • 論文等級:其他
  • 論文名稱(篇名):An Efficient Mobility Enhancement Engineering on 65nm FUSI CMOSFETs using a Second CESL Process
  • 會議名稱:Solid-State Device and Materials
  • 會議開始時間:2006-09-00
  • 會議結束時間:2006-09-00
  • 作者中文名:葉文冠
  • 作者英文名:Wen-Kuan Yeh
  • 全部作者:C. M. Lai, Y. K. Fang, C. T. Lin, W. K. Yeh, C. W. Hsu, C. H. Hsu, L. W. Chen and M. Ma
  • 著作人數:8
  • 作者型態:Corresponding Author
  • 會議地點:YoKohama, Japan
  • 使用語言:英文
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