"The Impact of Strain Technology on FUSI Gate SOI CMOSFET" , IEEE Transactions on Device and Materials Reliability , 9 , 1 , pp74-79 ,2009, (SCI),(EI)

出版日期：2009-03-00

期刊等級：SCI / EI

論文名稱(篇名)：The Impact of Strain Technology on FUSI Gate SOI CMOSFET

期刊名：IEEE Transactions on Device and Materials Reliability

卷數：9

期數：1

起頁：74

迄頁：79

總頁數：6

作者中文名：葉文冠

作者英文名：Wen-Kuan Yeh

全部作者：Wen-Kuan Yeh, Jean-An Wang, Ming-Hsing Tsai, Chien-Ting Lin, and Po-Ying Chen

著作人數：5

作者型態：First Author

使用語言：英文

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