"Significantly improving sub-90 nm CMOSFET performances with notch-gate enhanced high tensile-stress contact etch stop layer" , Microelectronics Reliability , 48 , 11-12 , pp1791-1794 ,2008, (SCI),(其他)

出版日期：2008-11-00

期刊等級：SCI / 其他

論文名稱(篇名)：Significantly improving sub-90 nm CMOSFET performances with notch-gate enhanced high tensile-stress contact etch stop layer

期刊名：Microelectronics Reliability

卷數：48

期數：11-12

起頁：1791

迄頁：1794

總頁數：4

作者中文名：葉文冠

作者英文名：Wen-Kuan Yeh

全部作者：Chia-Wei Hsu, Yean-Kuen Fang, Wen-Kuan Yeh, and Chien-Ting Lin

著作人數：4

作者型態：Corresponding Author

使用語言：英文

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