"The impact of interface/border defect on performance and reliability of high-k/metal-gate CMOSFET" , Microelectronics Reliability , 10 , 2 , pp11-16 ,2012, (SCI)
出版日期：2012-07-30
期刊等級：SCI
論文名稱(篇名)：The impact of interface/border defect on performance and reliability of high-k/metal-gate CMOSFET
期刊名：Microelectronics Reliability
卷數：10
期數：2
起頁：11
迄頁：16
總頁數：5
作者中文名：葉文冠
作者英文名：Wen-Kuan Yeh
全部作者：Wen-Kuan Yeh , Po-Ying Chen , Kwang-Jow Gan , Jer-Chyi Wang , Chao Sung Lai
