出版日期：2008-02-00
期刊等級：SCI / EI
論文名稱(篇名)：A Novel Strain Method for Enhancement of 90-nm Node and Beyond FUSI-Gated CMOS Performance
期刊名：IEEE Electron Device Letters
卷數：28
期數：2
起頁：111
迄頁：113
總頁數：3
作者中文名：葉文冠
作者英文名：Wen-Kuan Yeh
全部作者：Chien-Ting Lin, Yean-Kuen Fang, Wen-Kuan Yeh, Tung-Hsing Lee, Ming-Shing Chen, Chieh-Ming Lai, Che-Hua Hsu, Liang-Wei Chen, Li-Wei Cheng, and Mike Ma
著作人數：10
作者型態：Corresponding Author
使用語言：英文
