出版日期：2006-12-00
期刊等級：SCI / EI
論文名稱(篇名)：Effect of Silicon Thickness on Contact-Etch-Stop-Layer-Induced Silicon/Buried-Oxide Interface Stress for Partially Depleted SOI
期刊名：IEEE Electron Device Letters
卷數：27
期數：12
起頁：963
迄頁：965
總頁數：3
作者中文名：葉文冠
作者英文名：Wen-Kuan Yeh
全部作者：Chien-Ting Lin, Yean-Kuen Fang, Wen-Kuan Yeh, Tung-Hsing Lee, Ming-Shing Chen, Che-Hua Hsu, Liang-Wei Chen, Li-Wei Cheng, and Mike Ma
著作人數：9
作者型態：Corresponding Author
使用語言：英文
