出版日期：2007-04-00
期刊等級：SCI
論文名稱(篇名)：Extra Bonus on Transistor Optimization with Stress Enhanced Notch-gate Technology for sub-90nm CMOSFET
期刊名：Japanese Journal of Applied Physics
卷數：46
期數：4B
起頁：2131
迄頁：2133
總頁數：3
作者中文名：葉文冠
作者英文名：Wen-Kuan Yeh
全部作者：Chien-Ting Lin, Yean-Kuen Fang, Chieh-Ming Lai, Wen-Kuan Yeh, Che-Hua Hsu, Li-Wei Cheng, Yao-Tsung Huang, and Guang Hwa Ma
著作人數：8
作者型態：Corresponding Author
使用語言：英文
