"Stress Technology Impact on Device Performance and Reliability for <100> sub-90nm SOI CMOSFETs" , Japanese Journal of Applied Physics , 45 , 4B , pp3053-3057 ,2006, (SCI)
出版日期：2006-04-00
期刊等級：SCI
論文名稱(篇名)：Stress Technology Impact on Device Performance and Reliability for <100> sub-90nm SOI CMOSFETs
期刊名：Japanese Journal of Applied Physics
卷數：45
期數：4B
起頁：3053
迄頁：3057
總頁數：5
作者中文名：葉文冠
作者英文名：Wen-Kuan Yeh
全部作者：Chieh-Ming Lai, Yean-Kuen Fang, Wen-Kuan Yeh, S. H. Chen, and Ta-Hsun Yeh
